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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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crf電漿清洗機(jī)工藝與酸洗相比,哪種效果更好?

crf電漿清洗機(jī)工藝與酸洗相比,哪種效果更好?
       用強(qiáng)酸溶液浸泡筆尖,雖然也能粗化筆尖表面,提高親水性,但強(qiáng)酸液體清洗的處理?xiàng)l件不易精確控制。受各種條件影響,筆尖表面粗化不均勻,部分死角容易被忽視,影響筆墨的流暢性;其次,強(qiáng)酸溶液本身具有很強(qiáng)的刺激性,不僅對(duì)人體有害,而且對(duì)材料基礎(chǔ)也有一定的損害;最后,工藝廢水的處理也是一個(gè)大問(wèn)題。處理成本極高,受嚴(yán)格環(huán)保要求的限制,越來(lái)越多的有害化學(xué)品被禁止生產(chǎn)和使用。

電漿清洗機(jī)


       相比之下,等離子體清洗在酸洗方面具有絕對(duì)優(yōu)勢(shì)。首先,crf電漿清洗機(jī)清洗不需要擔(dān)心筆尖的不均勻處理,等離子體可以均勻地覆蓋筆尖的所有表面;第二,恒壓或真空crf電漿清洗機(jī)絕對(duì)安全,不會(huì)對(duì)身體造成任何傷害;第三,不添加其他化學(xué)劑或材料,不會(huì)對(duì)環(huán)境造成任何污染,絕對(duì)滿足環(huán)境要求;第四,設(shè)備操作簡(jiǎn)單,可調(diào)整處理參數(shù),支持全自動(dòng)處理,節(jié)約人力資源。
        crf電漿清洗機(jī)還可以選擇氧氣、氬氣、氮?dú)夂涂諝獾榷喾N氣體。氫氧活性氣體可通過(guò)氧化還原反應(yīng)有效去除筆尖表面的污染物;氬、氮等穩(wěn)定氣體可增強(qiáng)筆尖表面的蝕刻效果,保持筆墨的穩(wěn)定。
        一般來(lái)說(shuō),使用crf電漿清洗機(jī)對(duì)筆尖進(jìn)行表面處理,不僅可以有效提高筆尖表面的親水性,達(dá)到更好的墨水輸出效果,保持時(shí)間更長(zhǎng),而且生產(chǎn)成本更低,操作方便,安全、環(huán)保、無(wú)污染。

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