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CRF plasma 等離子清洗機

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在晶片加工預處理中,crf電漿清洗機的應用

在晶片加工預處理中,crf電漿清洗機的應用:
       晶片連接線的連接品質是影響設備可靠性的重要因素。連接線連接區應保證零污染,連接效果明顯。氧化物、有機殘留物等污染物的存在會嚴重削弱連接線連接的拉力值。傳統意義上的濕法清洗不徹底或無法去除鍵合區的污染物,而電漿清洗機的清洗能夠有效去除鍵合區的表面污垢,激活其表面,能夠大幅提升連接線的粘結強度,進一步提高封裝設備的可靠性。

電漿清洗機

       在粘合環節中,晶片與封裝基板之間往往存在一定粘合性,通常表現為疏水性和惰性,粘合性能差,粘合界面容易產生縫隙,給晶片帶來很大的隱患。晶片與封裝基板的水泥清洗機處理后,能夠有效提高晶片的表面活性,進一步提高晶片與封裝基板表面的環氧樹脂粘合流動性,增加晶片與封裝基板的粘合滲透性,減少晶片與基板的分層,增加晶片封裝的可靠性和穩定性,延長產品的使用壽命。用電漿清洗機對清洗機生產的輝光等離子體進行處理,能夠有效去除經過處理的材料表面原有的污染物和雜質,產生蝕刻效果,使樣品表面粗糙,產生許多細小的凹坑,增加接觸面積,提高表面的潤濕性(俗話說,增強表面的附著力,增強親水性)。電漿清洗機應用廣泛,可解決粘結、印刷、噴涂、靜電去除等技術問題,達到現代制造技術追求的高質量、高可靠性、高效率、低成本、環保的目標。
        許多工廠的操作人員,在使用電漿清洗機時,總是要咨詢廠家,這個設備的操作注意事項?

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