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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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plasma等離子設(shè)備與電暈清洗機(jī)是一樣的嗎?

plasma等離子設(shè)備與電暈清洗機(jī)是一樣的嗎?
         等離子體和電暈處理方法不同。電暈也只能處理非常薄的物品,例如塑料膜,要求處理目標(biāo)體積不能夠大,用于廣域處理。
一、plasma等離子設(shè)備表面處理與電暈機(jī)表面處理的差別
a、plasma等離子設(shè)備清洗了輝光放電,還包括電壓放電,產(chǎn)生的能量更強(qiáng),可以達(dá)到52達(dá)因以上的附著力,而電暈機(jī)一般只能達(dá)到32-36達(dá)因的附著力。
b、電暈機(jī)可處理寬幅、附著力要求低的物料,如布料、薄膜、塑料膜等。而單噴嘴等離子體表面處理的寬度僅為50mm,需要通過多噴嘴組合實(shí)現(xiàn)寬幅處理。處理寬幅時,成本會高一些,但處理效果好。

plasma等離子設(shè)備

二、plasma等離子設(shè)備表面處理與電暈機(jī)表面處理的相似之處
a、plasma等離子設(shè)備與電暈清洗機(jī)表面處理都是高頻高壓輝光放電,用等離子體對材料表面進(jìn)行處理;
b、等離子表面處理、電暈機(jī)表面處理:可提高材料表面的附著力,有利于粘接、噴涂印刷工藝;
C、都是在線加工、流水線生產(chǎn)。
三、plasma等離子設(shè)備處理與電暈處理機(jī)有哪些區(qū)別
       適用于處理的膜厚不同,電暈處理器在生產(chǎn)聚合物薄膜時,想必大家不難看出,電暈機(jī)是處理很容易讓薄膜變薄,甚至穿透開口,因?yàn)殡姇炋幚矸纸饬吮∧け砻鎺孜⒚缀竦谋韺印S捎谶@個原因,適用于處理的薄膜厚度是不同的。通常情況下,適用于電暈處理器處理的膜厚為25mm,而等離子清洗機(jī)對膜厚無特殊要求,但厚度小于20mm、使用等離子清洗機(jī)處理聚合物薄膜更合適。
        對薄膜材料種類的要求不同如上所述,電暈處理器對處理膜的厚度有要求,電是處理對膜的材質(zhì)也有要求。怎么理解?大家可能已經(jīng)發(fā)現(xiàn),當(dāng)處理的薄膜是常規(guī)塑料膜時,電暈處理器的處理效果相當(dāng)不錯,但如果薄膜材料是PTFE聚四氟乙烯、PET聚酷、PI聚酷亞胺等,電是處理效果往往不理想,這些材料的薄膜使用常壓或真空等離子清洗機(jī)可以達(dá)到理想的處理效果.
處理過的粘接強(qiáng)度和時效不同
       從電是處理和等離子處理后的結(jié)合強(qiáng)度來看,plasma等離子設(shè)備處理可以獲得更理想的結(jié)合強(qiáng)度。如果您對處理的結(jié)合強(qiáng)度或塑料膜金屬化前的處理有要求,2種處理方式都建議選擇電暈處理機(jī)處理。此外,就處理過的粘接強(qiáng)度衰老來講,電是處理通常可以從一個星期左右維持,plasma等離子設(shè)備處理后的效果可維持幾個月。


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