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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子體處理技術(shù)已是一種不可替代的成熟工藝

在IC芯片制造領(lǐng)域中,等離子體處理技術(shù)已是一種不可替代的成熟工藝,不論在芯片源離子的注入,還是晶元的鍍膜,亦或是我們的低溫等離子體表面處理設(shè)備所能達(dá)到的:在晶元表面去除氧化膜、有(機(jī))物、去掩膜等超凈化處理及表面活(化)提高晶元表面浸潤(rùn)性。

等離子體處理

等離子體應(yīng)用包括用于晶圓級(jí)封裝的等離子體晶圓清洗、焊前芯片載體等離子體清洗、封裝和倒裝芯片填充。微波平面等離子體系統(tǒng)是專為大基板的均勻處理而設(shè)計(jì)的,可擴(kuò)展到更大的面板尺寸。引進(jìn)300毫米晶圓對(duì)裸晶圓供應(yīng)商提出了新的更高的標(biāo)準(zhǔn)要求:通過將直徑從200毫米增加到300毫米,晶圓的表面積和重量增加了一倍多,但厚度卻保持不變。這大大增加了破碎險(xiǎn)。300毫米晶圓具有高水平的內(nèi)部機(jī)械張力(應(yīng)力),這大大增加了集成電路制造過程中的斷裂概率。這有明(顯)的代價(jià)高昂的后果。因此,應(yīng)力晶圓的早期檢(測(cè))和斷裂預(yù)防近年來受到越來越多的關(guān)注。此外,晶圓應(yīng)力對(duì)硅晶格特性也有負(fù)面影響。sird是晶圓級(jí)的應(yīng)力成像系統(tǒng),對(duì)降(低)成本和提高成品率做出了重大貢獻(xiàn)。




日期:2021年05月07日
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