20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
136 3268 3462
利用電漿清洗機(jī)的蝕刻系統(tǒng)除去孔內(nèi)的灰塵和微蝕刻: 電漿清洗機(jī)從二十世紀(jì)初開始。伴隨著高科技產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，它的應(yīng)用日益廣泛，目前在很多高科技領(lǐng)域都處于核心位置，電漿清洗機(jī)對(duì)產(chǎn)業(yè)...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-28
在真空室引入等離子體刻蝕機(jī)時(shí)，氣體要保持腔內(nèi)壓強(qiáng)穩(wěn)定： 將等離子體刻蝕機(jī)中引入真空，將氣體導(dǎo)入真空室，保持腔內(nèi)壓力穩(wěn)定。依據(jù)清潔材料的不同，可采用氧、氬、氫、氮、氟等多種氣體...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-26
plasam清潔設(shè)備的使用始于二十世紀(jì)初。隨著高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其運(yùn)用越來越廣泛。目前，它在許多高新技術(shù)領(lǐng)域處于關(guān)鍵技術(shù)的地位。plasam清洗設(shè)備對(duì)工業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明的干擾最大...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-24
本發(fā)明是根據(jù)低溫等離子刻蝕機(jī)凈化基本原理和機(jī)械離心基本原理設(shè)計(jì)而成，關(guān)鍵由離心分離機(jī)段、高(效)過濾段、低溫等離子體刻蝕機(jī)凈化部分、消聲部分組成。等離子體刻蝕機(jī)的清潔基本原理...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-22
誠(chéng)峰plasma表面改性可用于使物體具有親水性。將產(chǎn)品表面修改為接受包裝印刷的粘合劑或油墨的任何工藝通常稱為等離子體表面修改。這些過程用于使物體親水(可潤(rùn)濕)。 ...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-17
公眾號(hào)
客服微信
CRF plasma 等離子清洗機(jī)
CRF plasma 等離子清洗機(jī) 版權(quán)所有 ?2025
粵公網(wǎng)安備 44030602005200號(hào) 備案號(hào)：粵ICP備19006998號(hào)
