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CRF plasma 等離子清洗機

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21世紀工業上的添加劑-等離子體發生器的使用現狀

21世紀工業上的添加劑-等離子體發生器的使用現狀:
       等離子體發生器是物理清洗設備之一。其基本原理是將汽體用作等離子體發生器的物質,有效的地防止了鑒于液體清理物質給清理物帶來的二次污染。等離子體發生器外接真空泵,清理腔內的等離子體在工作時輕輕沖洗被清理物的表層,短期內的清理可使有機污染源完全徹底清理,同時將污染源用真空泵吸出,清理程度達到分子級。
       等離子體發生器除具有超清潔功能外,在特定條件下,還可以根據須要更改一些資料的表層特性,等離子體作用于資料表層,使表層分子的化學鍵重組,形成新的表層特性。對于一些特殊用途資料,超清理時等離子清洗器的輝光放電可以增強這些資料的粘附、相容性和浸潤性。目前廣泛應用在在光學、光電子、電子、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域有廣泛的使用。

等離子體發生器

       20世紀初,隨著高技術產業的迅速發展,等離子體發生器的使用日漸廣泛,使用范圍不斷擴大,現在已經處于眾多高新技術領域中,處于核心技術的位置,等離子體發生器技術對工業經濟和人類文明的影響最大,首當其沖的是電子信息行業,特別是半導體和光電行業。
       等離子體發生器已經被用于各種電子元件的制造中,我們可以肯定,沒有等離子體發生器及其清理技術,就沒有今天這樣發達的電子、信息、通信行業。另外,等離子體發生器及清理技術在光學、機械、航天、高分子工業、也是產品提升的關鍵技術,例如,光學元件鍍膜,抗磨損層,用于延長模具或加工工具壽命的復合材料中間層,織布或隱含鏡片的表面處理,微傳感器的制造,超微機械的抗摩擦層等都須要等離子技術的發展才能完成,等離子體發生器的使用將逐步得到普及和推廣。

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