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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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這四點確定了這兩款等離子清洗機(jī)的名稱不同

       常壓等離子清洗機(jī)可以直接在輸送帶上進(jìn)行等離子處理。適用于在線處理。無需任(何)真空技術(shù)對鋁進(jìn)行等離子處理的時候,可以生成很薄的氧化層(鈍化)可進(jìn)行局部表面處理(例如,粘結(jié)槽口)可以直接在輸送帶上處理對象。由于等離子體激發(fā)原理的原因,等離子處理痕跡有限(約 8-12 mm)。處理較大的對象的時候,必須使用多個噴嘴,或者多種類型的噴嘴(例如直噴+旋噴的組合)這都是視客戶的要求及產(chǎn)能來定的。對易氧化的對象進(jìn)行等離子清洗,受到一定的限制。對于負(fù)責(zé)的3D產(chǎn)品需要使用復(fù)雜的多關(guān)節(jié)型機(jī)器人技術(shù)。常壓等離子體的間隙滲透性受到一定的限制。常壓等離子清洗機(jī)一般只適用于平面處理。而且處理的面是單面,如果需要兩個面都處理,工藝流程就比較復(fù)雜了。對象必須極為精(確)的定位在輸送帶上,帶運(yùn)動平臺的常壓等離子清洗機(jī)噴嘴的運(yùn)動軌跡是可以設(shè)定的,但是要求處理的對象是固定在運(yùn)動平臺上。

等離子清洗機(jī)

       常壓等離子清洗機(jī)一:是噴嘴的結(jié)構(gòu)不同。常壓機(jī)有兩種噴嘴,要么是直噴的等離子,這一種噴嘴等離子集中,力道大,能量高,但是面積比較小,還有一種旋噴型,力道相對比較小的一點,但是等離子噴射的面積比較寬,目前旋噴頭可以做到直徑8公分。真空腔里面的等離子是不定向的,只要是裸露在外面的表面,都可以清洗到,這也是真空等離子清洗機(jī)的一大好處。像常壓等離子就只能清洗某個材料的局部,或者比較平整的東西,典型的就是手機(jī)玻璃板、tp框。 
常壓等離子清洗機(jī)二:是選用的氣體方面有差異,真空腔里面對各種復(fù)雜的工藝進(jìn)行精(確)控制。平時有多種氣體可供選擇。常用的有氫氣、氧氣、氬氣等等。每一種氣體的的性質(zhì)不一樣,所能達(dá)到的效(果)也不相同。更多時候會采用混合氣體。常壓等離子常用的就是普通的壓縮空氣,當(dāng)然也可以接入氮?dú)?,像電暈機(jī)里面,有一些特殊要求的就接入氮?dú)馓幚恚@個工藝國內(nèi)不少公司還做不了,不過好消息是東信可以做到。
常壓等離子清洗機(jī)三:是清洗的溫度。常壓等離子清洗的溫度比較高,不過常壓等離子大都是安裝在流水線上,材料一個接一個的過,不會在噴槍下面停留很長的時間。所以溫度也過的去,如果停留的時候過長,哪怕只有幾秒鐘,溫度就行急劇的上升。也是因為溫度高的緣故,所以一般比較脆弱的東西都是采用真空機(jī)洗。 真空型等離子清洗機(jī)就沒那么復(fù)雜,按電源頻率劃分,40KHz和13.56MHz為例:通常情況下材料放入腔體內(nèi)工作,頻率為40KHz一般溫度為65°以下,再者機(jī)器內(nèi)部裝有強(qiáng)冷風(fēng)扇,處理時間不長的話,材料表面溫度都會跟室溫一致。頻率為13.56MHz的就會更低,通常情況是30°以下。所以處理一些受熱易發(fā)生形變的材料,低溫真空型等離子清洗機(jī)的是在再適合不過了。
       常壓等離子清洗機(jī)四:是等離子產(chǎn)生的條件。常壓等離子使用的就是壓縮空氣,當(dāng)氣體達(dá)到0.2mpa的時候才產(chǎn)生等離子,但是真空等離子清洗機(jī)不一樣,真空等離子清洗機(jī)需要抽真空的,一般真空腔抽到25pa 以下就可以產(chǎn)生等離子。

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