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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子噴槍氣體的選擇和處理的材料范圍

等離子噴槍氣體的選擇和處理的材料范圍:
       相同配置的設備,氧氣等離子噴槍處理比氮氣等離子體處理效果更好。若需進行蝕刻,及其蝕刻后需要清除污垢,浮渣,表面處理,等離子聚合,等離子灰化或任何其他蝕刻應用,我們可以按照客戶的要求,生產出安全可靠的等離子蝕刻機技術。我公司兼具傳統的等離子型蝕刻系統和反應型離子型蝕刻系統,可以生產系列產品,也可以為客戶定制專用系統。我們可以提供快速/高質量蝕刻,提供所需的均勻度。

等離子噴槍

       隨著處理時間的延長,薄膜表面接觸角減小,但在一定時間內,接觸角幾乎沒有變化。等離子體處理可用于各種基底,復雜的幾何構形也可進行等離子噴槍活化,清洗,鍍膜等。等離子處理的熱負荷和機械負荷較低,因此,低壓等離子也能處理敏感材料。
以上結果說明,利用等離子噴槍表面處理PTFE粘性較好,需要不斷地調整各處理參數以獲得良好的處理工藝,CRF等離子噴槍操作簡單,可設定多個實驗參數,同時也可儲存多種工藝參數,這對探尋工藝參數很有幫助。
        等離子噴槍技術的典型應用是:半導體/集成電路;氮化鎵;氮化鋁/氮化鎵;砷化鎵/砷化鋁鎵;砷化鎵;磷化銦、鎵/銦鎵化物(InPInGaAs/InAlAs);硅;硅鍺;硅化硅陶瓷(Si3N4);硅的溴化氫;硒化鋅(ZnSe);鋁;鉻;鉑;鉬;鈮;銦;鎢;銦錫氧化物;銦鈦酸鉛;塑料/高分子材料;聚四氟乙烯(PTFE);聚甲醛(POM);聚苯并咪唑(PBI);聚醚醚酮(PEEK);聚酰胺(PFA);聚酰胺(PFA);聚酰胺等。

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