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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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plasma等離子清洗機(jī)也有做不到的事情你了解嗎

  plasma等離子清洗機(jī)在應(yīng)用中也有一定的制約因素存在,主要表現(xiàn)為以下幾點(diǎn):
  1.不能用這種方法除去物體表面的切削粉末,這點(diǎn)在清洗金屬表面油垢時(shí)表現(xiàn)尤為明(顯)。
  2.實(shí)踐證明不能用它清楚很厚的油污,雖然用等離子體清洗少量附著在物體表面的油垢有很好的效(果),但是對(duì)厚油垢的清(除)效(果)往往不好,一方面用它清(除)油膜,必須延長(zhǎng)處理時(shí)間,使清洗的成本大大提高,另一方面有可能是它在與厚油垢相互接觸的過(guò)程中,引發(fā)油垢分子結(jié)構(gòu)中的不飽和鍵發(fā)生了聚合,偶聯(lián)等復(fù)雜反應(yīng)而形成較堅(jiān)硬的樹(shù)脂化立體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)有關(guān)。一旦形成這類樹(shù)脂膜他將很難被清(除)。因此通常只用等離子體清洗厚度在幾個(gè)微米以下的油污。
  3.在應(yīng)用過(guò)程中還發(fā)現(xiàn)不能用等離子體清洗很好除去表面粘附的指紋,而指紋是玻璃光學(xué)元件上常出現(xiàn)的一種污染物。等離子體清洗也不完(全)不能用于出去指紋,但這需要延長(zhǎng)處理時(shí)間,這時(shí)又不得不考慮到這是他會(huì)對(duì)基材的性能造成不良的影響。所以還需要采用其他清洗措施進(jìn)行預(yù)處理相配合。結(jié)果使清洗工藝過(guò)程復(fù)雜化。
  4.由于plasma等離子清洗機(jī)過(guò)程需要進(jìn)行真空處理,而且一般為在線或批量生產(chǎn),因此在把等離子體清洗裝置引進(jìn)生產(chǎn)線時(shí),必須考慮到被清洗工件的貯存和移送的問(wèn)題,特別是當(dāng)被處理工件體積較大,數(shù)量較多更應(yīng)考慮到這個(gè)問(wèn)題。
  綜上所訴可知:plasma等離子清洗機(jī)技術(shù)適用于對(duì)物體表面的油,水及微粒等輕度油污進(jìn)行清洗,而且利于“速戰(zhàn)速?zèng)Q”的在線或批量清洗。

plasma等離子清洗機(jī)
  plasma等離子清洗機(jī)在運(yùn)行時(shí)應(yīng)該要注意哪些事項(xiàng):
  1、正確設(shè)置等離子設(shè)備的運(yùn)行參數(shù),按時(shí)設(shè)備使用說(shuō)明書(shū)來(lái)執(zhí)行;
  2、保護(hù)好等離子體的點(diǎn)火裝置,以確保等離子清洗機(jī)可以正常的啟動(dòng);
  3、等離子設(shè)備在啟動(dòng)前的準(zhǔn)備工作,要對(duì)相關(guān)的人員進(jìn)行培訓(xùn),同時(shí)確保操作等離子清洗機(jī)的人員可以按照要求嚴(yán)格執(zhí)行各項(xiàng)操作;
  4、在一次風(fēng)管沒(méi)有通風(fēng)的時(shí)候,等離子體的發(fā)生器運(yùn)行時(shí)間不能超過(guò)設(shè)備說(shuō)明書(shū)上面要求的時(shí)間,防止燒壞燃燒器,造成不必要的損失;
  5、如果需要對(duì)等離子設(shè)備進(jìn)行維護(hù)時(shí)請(qǐng)將等離子發(fā)生器進(jìn)行斷電后再進(jìn)行相應(yīng)的操作。
  等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過(guò)其處理,能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除有(機(jī))污染物、油污或油脂。



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