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CRF plasma 等離子清洗機

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便攜式等離子清洗系統-等離子清洗系統清洗技術分類有哪些

       近年來雖然很多企業都在使用等離子清洗系統,但是卻很少人知道等離子等離子清洗系統其他的用途是哪些?清洗技術分類又包含哪些,這里小編就來詳細介紹一下這種便攜式等離子清洗系統,它包括主框架、連接主框架的背板和設置在主框架上的外保護外殼。主框架包括反應腔、設置在反應腔一側的調諧網絡、電路系統、控制單元和控制主板。反應腔和調諧網絡位于主框架的上部,電路系統位于主框架的下部,控制單元和控制主板位于主框架的下部和電路系統的背部。它是一種設計緊湊、占地面積小、功能全、成本低的便攜式等離子清洗系統。同時(降)低了等離子清洗系統的使用門檻,為更多行業和科研機構的技術研發創造了便捷條件。
       等離子體清洗系統的清洗技術分為幾類?等離子體主要是經過氣體電離行成的,包括電子、離子體、自由基、紫外線等高能物質,具有(激)活產品表面的功能。接下來,CRF將與您分享:

等離子清洗系統

       根據反應類型的不同,等離子清洗系統的清洗技術可以分為兩類:等離子體物理清洗,即利用活性顆粒和高能射線轟擊將污染物分離;等離子體化學清洗,即經過活性顆粒與雜質分子的反應使污染物揮發和分離。
(1)激起頻率對等離子體的清洗類型有一定影響
例如:超聲波等離子體(激起頻率,40kHz)的反應大多數是物理反應;微波等離子體(激起頻率,2.45GHz)的反應大多數是化學反應;射頻等離子體(激起頻率,13.56MHz)涉及物理化學雙重反應類型。

等離子清洗系統

(2)工作氣體的類型也影響等離子體的清潔類型
例如:Ar2、N2等行成的等離子體常見應用物理清洗,產品表面經過轟擊清洗;反應性氣體O2、H2等行成的等離子體常見應用化學清洗,活性自由基與污染物(大多數是碳氫化合物)發生化學反應,行成一氧化碳、二氧化碳、水等小分子,從產品表面去除。
(3)等離子清洗系統的清洗方式會影響清洗(效)果
例如:等離子體物理清洗能使產品表面粗糙度增大,并能提高產品表面的附著力;等離子體化學清洗能顯著增強產品表面氧、氮等活性基團,能夠提高產品表面的潤濕性。
      以上相關內容已將等離子清洗系統清洗技術分為幾類比較清楚,如有不懂的伙伴,歡迎隨時登陸深圳誠峰智造網站了解等離子清洗技術分為幾類知識共享。


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