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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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如何提高等離子體表層處理器的附著力


       等離子體是一種物質(zhì)狀態(tài)，通常物質(zhì)存在于固體、工業(yè)狀態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)，但是在一些特殊情況下，可以行成另一種狀態(tài)，如太陽(yáng)表面的物質(zhì)和大氣中的電離層物質(zhì)。這種物質(zhì)的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，也稱為位物質(zhì)的第四狀態(tài)。
      低溫等離子體是指低壓放電(輝光、電暈、高頻、微波等)行成的電離氣體。)。在電場(chǎng)的作用下，氣體中的自由電子從電場(chǎng)中獲取能量，變成高能電子。那么，這種物質(zhì)是如何提高等離子體表層處理器的表層附著力的呢？
      這種高能電子與氣體中的分子、原子發(fā)生沖突，電子能量大于分子或原子的激發(fā)能量，激發(fā)分子或激發(fā)原子自由基、離子和不同能量的x射線，通過(guò)離子轟擊或注入復(fù)合材料表層，行成斷鍵或引入化學(xué)鍵，使表面活化


      在等離子體噴射下，塑料表層出現(xiàn)了一些活性原子、自由基和不飽和鍵，它們與等離子體中的活性顆粒接觸，行成了新的活性基。但含有活性基團(tuán)的材料會(huì)受到氧的作用或分子鏈的移動(dòng)，從而使表層活基團(tuán)消失。在金屬材料表層改性過(guò)程中，由于表面活粒子對(duì)表層分子的作用，造成表層分子鏈斷裂，從而行成了新的自由基、雙鍵等活性基團(tuán)，從而引起表層交聯(lián)、接枝等反應(yīng)。反應(yīng)性等離子體是指等離子體中的活性顆粒能與粘合度差的材料表層進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，從而引入大量極性基團(tuán)，使材料表層由非極性向極性轉(zhuǎn)變，表面張力增大，粘性增大。此外，在高速度沖擊下，難粘材料表層出現(xiàn)了分子鏈斷裂的交聯(lián)現(xiàn)象，使表層分子的相對(duì)分子質(zhì)量增大，弱邊界層狀態(tài)得到改善，對(duì)提高表層粘結(jié)性能起到了正向作用。反應(yīng)性等離子體活性氣體主要有02、H2、NH3、CDA等氣體。
      介紹等離子體表層處理設(shè)備可以提高表層粘度的信息，希望對(duì)大家有所幫助。



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