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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子體清洗的優(yōu)勢(shì)在油脂污垢表現(xiàn)的很突出

       等離子體對(duì)油脂污垢的作用,類似于使油脂污垢發(fā)生燃燒反應(yīng);但不同之處在于在低溫情況下發(fā)生的“燃燒”。在氧氣等離子體中的氧原子自由基,激發(fā)態(tài)的氧氣分子,電子以及紫外線的共同作用下,油脂分子被氧化成水和二氧化碳分子,并從從物體表面被清(除)。可以看出,用等離子體清(除)油污的過(guò)程是一個(gè)使有(機(jī))大分子逐步降解的過(guò)程,形成的是水喝二氧化碳等小分子,這些小分子以氣態(tài)形式被排除。
       等離子體清洗的另一個(gè)特點(diǎn)是在清洗完成之后物體已被徹底干燥。經(jīng)過(guò)等離子體處理的物體表面往往形成許多新的活性基團(tuán),使物體表面發(fā)生“活(化)”而改變性能,可以大大改善物體表面的浸潤(rùn)性能和黏著性能,這對(duì)許多材料是很重要的。因此等離子清洗具有許多用溶劑進(jìn)行的濕法清洗所無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn)。

等離子體

       等離子體清洗由真空室,真空泵,高頻電源,電極,氣體導(dǎo)入系統(tǒng),工件傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。整個(gè)清洗過(guò)程大致如下;被清洗的工件送入真空式并加以固定,啟動(dòng)運(yùn)行裝置,開(kāi)始排氣,使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要幾分鐘。
       向真空室內(nèi)引入等離子體清洗用的氣體,并保持腔內(nèi)壓強(qiáng)穩(wěn)定。根據(jù)清洗材質(zhì)的不同,可分貝使用氧氣、氬氣、氫氣、氮?dú)狻⑺姆嫉葰怏w。在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過(guò)輝光放電而發(fā)生等離子化和產(chǎn)生等離子體,讓在真空室產(chǎn)生的等離子體完(全)籠罩住被處理工件,開(kāi)始清洗作業(yè),一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾十(分)鐘不等。清洗完畢后切斷電源,并通過(guò)真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出。
       等離子體清洗的另一個(gè)特點(diǎn)是在清洗完成之后物體已被徹底干燥。經(jīng)過(guò)等離子體處理的物體表面往往形成許多新的活性基團(tuán),使物體表面發(fā)生“活(化)”而改變性能,可以大大改善物體表面的浸潤(rùn)性能和黏著性能,這對(duì)許多材料是很重要的。因此等離子體清洗具有許多用溶劑進(jìn)行的濕法清洗所無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn)。與濕法清洗相比,等離子體清洗的優(yōu)勢(shì)表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:
       在經(jīng)過(guò)等離子體清洗之后,被清洗物體已經(jīng)很干燥,不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。不使用三氯乙烷等有害污染物,屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方式、用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同, 它的方向性不強(qiáng),因此它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù),所以不必過(guò)多考慮被清洗物體形狀的影響。而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效(果)與用氟利昂清洗的效(果)相似甚致更好。整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn)。

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