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CRF plasma 等離子清洗機

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plasma設備crf的應用領域和機理

plasma設備crf的應用領域和機理:
       隨著我國經濟快速發展,清潔技術不斷發展和創新,從傳統的手工清潔到有機溶劑清潔、高壓水射流清洗和超聲波清洗。隨著科學技術的快速發展,作為本世紀初plasma設備表面處理技術的出現,清潔技術已逐漸應用于汽車制造涂料預處理、液晶玻璃表面清潔、電路板印刷、電鍍、油污替代化學處理等領域。

plasma設備

       plasma設備清洗技術在應用過程中具有清洗效果徹底、處理表面穩定、清潔困難部位有效清潔等特點。plasma設備的工作原理主要依靠等離子體活性顆粒的“激活”來去除物體表面的污漬。
在反應機制方面,plasma設備的等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被刺激為等離子體狀態;固體表面吸附氣相物理;吸附基團與固體表面分子反應產生產物分子;產物分子分析形成氣相;反應殘留物脫離表面。
      材料表面產生的plasma設備反應主要有2種:一種是等離子體的物理反應,另一種是自由基的化學反應。
       plasma設備和材料表面的物理反應主要是利用離子作為純物理沖擊,原子或附著在材料表面的離子,因為平均自由基的低壓,能量積累,所以在物理沖擊中,離子能量越高,越容易產生沖擊,所以如果物理反應,必須控制低壓反應,使清潔效果更好。

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