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CRF plasma 等離子清洗機

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低溫等離子清洗,高效去除物體表面殘留物質不產生二次污染


       低溫等離子清洗是一種干式工藝,由于采用電能催化反應,可以提供一個低溫環境,同時排除了濕式化學清洗所產生的危險和廢液、穩定、可靠、環保。簡而言之,低溫等離子清洗技術結合了等離子體物理、等離子體化學和氣固兩相界面反應,可以去除殘留在材料表面的有(機)污染物,并保證材料的表面及本體特性不受影響,目前被考慮為傳統濕法清洗的主要替代技術。
低溫等離子清洗技術不分處理對象的基材類型,對半導體、金屬和大多數高分子材料均有很好的處理效果,并且能夠實現整體、局部以及復雜結構的清洗。此工藝容易實現自動化與數字化流程,可裝配高精度的控制裝置,控制時間等功能。正是由于等離子體清洗工藝擁有使用簡單、精密可控等顯著優勢,目前已在電子電氣、材料表面改性與活化等多個行業普遍應用。同時,這種優越的技術也將被復合材料領域所認可并廣泛采用。


低溫等離子清洗的效果與特點
  與傳統的溶劑清洗不同,低溫等離子清洗機是依靠其中所包含高能物質的“活化作用”達到清洗材料表面的目的,清洗徹底,是一種剝離式清洗。其清洗優勢主要體現在以下幾個方面:
(1)清洗后的材料表面沒有殘留物,并且可以通過選擇、搭配不同的氣體與等離子體混合的清洗類型,產生不同的清洗(效)果,滿足后續處理工藝對材料表面特性的多種需求;
(2)由于等離子體的方向性不強,因此方便清洗帶有凹陷、空洞、褶皺等復雜結構的物件,適用性較強;
(3)可處理多種基材,可兼容多種類型的基材,因此特別適合清洗不耐熱和溶劑的基體材料;
(4)清洗過后無需干燥或其他工序,無廢液產生,同時其工作氣體排放無二次污染,綠色環保;
(5)使用簡便、易控、快捷,同時此工藝避免了大量溶劑的使用,因此成本較。

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