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CRF plasma 等離子清洗機

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射頻真空等離子清洗機可對珠寶表面進行清洗

      為了滿足珠寶行業對產品美觀性、功能性和耐久性的高要求,射頻真空等離子清洗機的應用變得越來越重要,由于等離子體本身可以在處理溫度低、間隙滲透性高的情況下進行超精細清洗。
       射頻真空等離子清洗機是1種智能化設備,運用等離子體達到傳統清洗方法無法達到的效果。其中產生的等離子體是一種物質聚集狀態,也稱為第四物質狀態。通過將工藝氣體通入設備腔體,向氣體施加足夠的能量,將其分離成等離子體狀態,最終等離子體與處理物體發生反應,從而達到處理效果。

射頻真空等離子清洗機

      在珠寶行業,如果plasma在表盤粘接前清洗,可以去除框架和表盤表面的原始污染物,刺激表面活性,降低粘接成本,使表盤粘接更加牢固。如果不使用等離子體清洗,粘接價格會更高,甚至可能導致粘接不牢固,表面涂層的成品率可能會降低,產品的使用壽命可能會縮短。
       此外,plasma技術過程極其環保,不會在需要處理的零件上留下任何清潔液殘余物。這是一個環保的過程,也正是因為這些原因,等離子技術對珠寶行業非常重要。此外,在一些常規的清潔方法中,會使用既有殘余物又需要干燥時間的清潔液。由于清潔液通常對環境有害,所以在這個過程中會產生很高的廢棄處理成本。最終,鑒于珠寶行業附加的干燥過程,會帶來很多時間損失。
       CRF射頻真空等離子清洗機可以在較低的處理溫度下進行超精細清洗,因此不需要對組件進行額外的干燥。通過這種方法,珠寶可以通過等離子體處理來提高原材料的表面張力值,去除酸洗或其他工藝,環保經濟,使粘結結果更加牢固、光滑、美觀。

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