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CRF plasma 等離子清洗機

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為什么crf電漿清洗機處理須要真空環(huán)境下,其原理是什么?

為什么crf電漿清洗機處理須要真空環(huán)境下,其原理是什么?
       crf電漿清洗機須要引進真空環(huán)境的原因很多,但實質(zhì)上,具體有好幾個因素:引進真空室的氣體在壓力環(huán)境中不會電離,在充入氣體電離產(chǎn)生plasma之前必須達到真空環(huán)境。此外,真空環(huán)境允許我們控制真空室中的氣體類型,并控制真空室中氣體類型對等離子體處理過程的可重復(fù)性至關(guān)重要。

電漿清洗機

        要進行crf電漿清洗機處理產(chǎn)品,首先我們要產(chǎn)生plasma。首先,將單一氣體或混合氣體引進密封的低壓真空plasma室。然后兩個電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF)激活,這些氣體中激活的離子加速,開始振動。這種振動。“用力擦洗”材料表面的污染物須要清洗。在處理過程中,plasma中激活的分子和原子會發(fā)出紫外線,從而引發(fā)plasma的光。溫度控制系統(tǒng)通常用于控制蝕刻率。對溫度敏感的部件或部件的plasma蝕刻溫度可控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統(tǒng)都已預(yù)先編程并集成到plasma系統(tǒng)的軟件中間。設(shè)置一個保存每個等離子體處理的程序,以便輕松地復(fù)制處理過程。
       不同的氣體可以引進plasma室來改變處理過程。常用的crf電漿清洗機包括02、N2、Ar、H2和CF4。世界各地的大多數(shù)實驗室基本上都使用這五種氣體單獨或混合進行crf電漿清洗機處理。


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