O2和N2通入CRF誠峰電漿清洗機的哪種應(yīng)用效果好：
       同樣條件下，O2電漿清洗機處理比N2處理效果更好。另外需要蝕刻，以和清除污垢，浮渣，表面處理，等離子聚合，電漿灰化或任何其它蝕刻應(yīng)用，如果客戶是非標產(chǎn)品需要定制，我司也可以按需設(shè)計和做出符合客戶要求的設(shè)備。我公司兼具傳統(tǒng)的電漿清洗機系統(tǒng)和反應(yīng)型離子型蝕刻系統(tǒng)，可以生產(chǎn)系列產(chǎn)品，也可以為客戶定制專用系統(tǒng)。我們可以提供快速/高質(zhì)量蝕刻，提供所需的均勻度。

      隨著處理時間的拉長，時間的拉長而減小，卻在相應(yīng)期限內(nèi)，表面張力幾乎沒有變化。等離子體處理可用于各種基底，復雜的幾何構(gòu)形也可進行等離子體活化，電漿清洗和鍍膜等。低壓等離子體還可以處理熱負荷和機械負荷低的敏感材料。
      上述結(jié)果說明，利用電漿清洗機處理PTFE粘性較好，需要不斷地調(diào)整各處理參數(shù)以獲得良好的處理工藝，CRF誠峰電漿清洗機操作簡單，可設(shè)定多個實驗參數(shù)，同時也可儲存多種工藝參數(shù)，這對探尋工藝參數(shù)很有幫助。
       crf電漿清洗機技術(shù)的典型應(yīng)用是:半導體/集成電路；氮化鎵；氮化鋁/氮化鎵；砷化鎵/砷化鋁鎵；砷化鎵；磷化銦、鎵/銦鎵化物(Inpingas/Inalas)；硅；硅鍺；硅化硅陶瓷(Si3N4)；硅溴化氫；硒化鋅(Znse)；鋁；鉻；鉑；鉬；