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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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玻璃蓋板plasma等離子清洗機(jī)理的介紹

璃蓋板plasma等離子清洗機(jī)理的介紹:
        應(yīng)對(duì)玻璃蓋板板材生產(chǎn)流水線的需求,可選用誠(chéng)峰plasma等離子清洗設(shè)備清理產(chǎn)品,可選擇的設(shè)備有:常壓大氣等離子清洗機(jī),寬幅線性等離子設(shè)備等。等離子體的離子和電子的能量可以達(dá)到6eV甚至更高。plasma等離子清洗的特性是噴出的等離子體為中性且無帶電粒子。可以在線對(duì)清理過的材料表面進(jìn)行活性、清潔和刻蝕。

plasma等離子清洗


        大氣常壓每個(gè)噴頭的等離子體尺寸為:直徑15~90mm不等,噴頭長(zhǎng)度20~30mm不等。可根據(jù)產(chǎn)品尺寸及加工寬度需求靈活選擇在線加工玻璃蓋板等離子清洗機(jī)設(shè)備。
玻璃蓋板crf誠(chéng)峰plasma等離子清洗表面活性清潔研究的機(jī)理:
       crf誠(chéng)峰plasma等離子清洗由很多自由電荷和離子構(gòu)成,宏觀角度上接近電中性離子氣體,是物質(zhì)存在的另一種聚合態(tài),即等離子態(tài),即物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體中的電子由電場(chǎng)獲得能量,轉(zhuǎn)變?yōu)樽杂傻母吣茈娮樱c氣體中的原子和分子形成撞擊,形成激發(fā)和電離情況,形成激發(fā)分子,而原子、離子和游離基極不穩(wěn)定,化學(xué)反應(yīng)性強(qiáng),易形成一般不能形成的反應(yīng),形成新的化合物,或使所清理物的介失重。加工時(shí),表面層會(huì)被蝕刻,從而形成新的性能(例如減量、吸濕、增深、粘合等);或者導(dǎo)致交聯(lián)、接枝和聚合。
        等離子體和普通氣體在性質(zhì)上有很大不同。電漿中的電子溫度可達(dá)數(shù)千至數(shù)萬K,而氣體溫度很低,在室溫下約可達(dá)幾百攝氏度,而電子能量約為幾至十個(gè)電子伏。其能量比聚合物材料的鍵能大得多(大約十到十個(gè)電子伏特),能夠完全打破有機(jī)分子的化學(xué)鍵,從而形成新的鍵能;然而,它比高能射線少得多,而且只對(duì)材料表面有影響,所以不會(huì)對(duì)其造成影響。
    如果您還有什么疑問或者想要了解的,歡迎隨時(shí)咨詢誠(chéng)峰智造等離子技術(shù)廠家。

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