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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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crf真空等離子設(shè)備清洗或改進(jìn)各種金屬不銹鋼材料零件表面性能

crf真空等離子設(shè)備清洗或改進(jìn)各種金屬不銹鋼材料零件表面性能:
       crf真空等離子設(shè)備可以用來清洗或改進(jìn)各種金屬材料零件的表面,為各種應(yīng)用場(chǎng)合提供等離子處理解決方案,例如:表面去油污和潔凈:金屬表層常常會(huì)出現(xiàn)油脂、油污等有機(jī)物和氧化層,在進(jìn)行濺射、噴漆、粘合、焊接、銅焊以及PVD、CVD涂層之前,需要先用等離子處理機(jī)等離子技術(shù)處理來達(dá)到完全潔凈和沒有氧化層的表面。焊接:印刷線路板焊接前,先用化學(xué)助焊劑處理。這些化學(xué)物質(zhì)焊后必須用等離子法去除,否則會(huì)引起腐蝕等問題。

真空等離子設(shè)備

      下面是誠(chéng)峰智造crf真空等離子設(shè)備在不銹鋼材料等離子體表面處理不銹鋼樣品的一個(gè)例子,旨在改善不銹鋼金屬表面的附著力。
       結(jié)論:不銹鋼試樣初始滴角約為125度,屬于疏水產(chǎn)品,但經(jīng)等離子處理機(jī)后,滴角可達(dá)28度以內(nèi),經(jīng)處理后親水效果好,潤(rùn)濕性大,用接觸角測(cè)量?jī)x器將這些數(shù)據(jù)量化,可以非常有效地幫助客戶做后續(xù)工作。
       crf真空等離子設(shè)備主要依靠等離子中電子、離子、激發(fā)態(tài)原子和氧自由基等活性離子的激活效用,將金屬表層生物大分子有機(jī)污染物逐漸分解掉,產(chǎn)生穩(wěn)定的揮發(fā)性有機(jī)物,粘在表面上的小分子被徹底脫離以被清除。同時(shí),等離子體清洗可以大大提高金屬表層的附著力和潤(rùn)濕性,進(jìn)一步促進(jìn)金屬材料的發(fā)展。
同時(shí),表面處理也非常有利。隨著高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,crf真空等離子設(shè)備制造商等離子體清洗技術(shù)的應(yīng)用越來越廣泛,已廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、光電等高新技術(shù)領(lǐng)域。
      下面是誠(chéng)峰智造crf真空等離子設(shè)備廠家處理金屬鋁的例子:
       經(jīng)crf真空等離子設(shè)備表面處理,接觸角由開始的87.7°降至19.1°,大大提高了金屬鋁的表面潤(rùn)濕性。


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