CRF誠(chéng)峰plasma清洗機(jī)工藝與傳統(tǒng)的清洗形式有哪些區(qū)別呢？
誠(chéng)峰plasma清洗機(jī)的關(guān)鍵功能模塊是運(yùn)用離子注入做到常規(guī)清洗方式 沒(méi)法做到的效果，plasma等離子清洗機(jī)的特點(diǎn)有如下：
1、plasma清洗機(jī)可以清除有機(jī)層(含碳污染物)，會(huì)被氧氣和氣體浸蝕，根據(jù)過(guò)壓吹掃表層清除，污漬根據(jù)離子注入中的高能粒子轉(zhuǎn)化為穩(wěn)定的小分子并清除。由于離子注入的清除速度只能做到每次幾nm，因此污漬的厚度只能做到幾百納米；
2、可以起到還原氧化物的作用，金屬氧化物與工藝氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。氫與氬或氮的混合物用作工藝氣體。離子注入射流的熱效應(yīng)可能導(dǎo)致進(jìn)一步氧化；。因此，建議在惰性氣體環(huán)境中展開(kāi)處理；
3、誠(chéng)峰plasma清洗機(jī)多方面適合在粘結(jié)前展開(kāi)離子注入活化處理，故而改善新產(chǎn)品粘力；
4、可以在粘結(jié)、植絨、印刷之前處理；
5、金屬和陶瓷表層局部根據(jù)離子注入在粘接前處理，可以起到激活材料表層的作用；
6、plasma清洗機(jī)可以搭配自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備，不需要工人24小時(shí)站在機(jī)器旁邊。
在科技高速發(fā)展的時(shí)代，等離子清洗工藝的出現(xiàn)，大大提高了企業(yè)的生產(chǎn)效率。當(dāng)plasma清洗機(jī)艙體內(nèi)接近真空狀態(tài)時(shí)，開(kāi)啟射頻電源，這時(shí)氣體分子電離，產(chǎn)生離子注入，并且伴隨輝光放電現(xiàn)象，離子注入在電場(chǎng)下加速，故而在電場(chǎng)作用下高速運(yùn)動(dòng)，對(duì)物體表層發(fā)生物理碰撞，等離子的能量足以清除各種污染物，同時(shí)氧離子可以將有機(jī)污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外，plasma清洗機(jī)是一種提高工作效率的同時(shí)也響應(yīng)了環(huán)保的號(hào)召。深圳市誠(chéng)峰智造有限公司是一家自主研發(fā)和生產(chǎn)離子注入清洗的廠家，又稱離子注入表層處理機(jī)，是一家全新的現(xiàn)代高科技企業(yè)。本章關(guān)鍵講解離子注入清洗機(jī)的功能模塊。假如您對(duì)plasma清洗機(jī)有疑問(wèn)，相信本章能為您解答。