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CRF plasma 等離子清洗機

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誠峰表層等離子體表面處理儀選用低溫plasma工藝對AP粉體表層做好改性

誠峰表層等離子體表面處理儀選用低溫plasma工藝對AP粉體表層做好改性:
       高氯酸銨作為一種新型氧化劑,常用于復合固體推進劑、改性雙基推進劑和硝酸酯熱塑性樹脂聚醚多元醇(NEPE)推進劑,有著氧含量高、焓大、熱穩定性高等優點。目前,為了提高推進劑的燃燒速度,超細高氯酸銨已廣泛應用于推進劑中。
但隨著粒度的減小,比表面積的增大,超細AP粉有著很強的吸水性,容易聚集成塊狀,嚴重影響推進劑的使用成效。在硝化棉(NC)上覆覆AP后,超細AP吸水性能下降,有效解決了超細AP起塊問題。挑選了對超細粉AP做好復合改性,使改性材料有著不錯的防起塊成效,在工業上有著應用前景,誠峰表層CRF等離子體表面處理儀法也有了它的發揮空間。

等離子體表面處理儀

       采用聚苯乙烯(PS)和12氟庚基三叔丁基氯硅烷(FAS)遮蓋高氯酸銨,得到AP/PS/FAS復合膜,減少了AP的吸水性。這類辦法的相似之處是對AP做好覆蓋改性,但用過多,有可能使推進劑容量減少,從而影響到其使用,因此研究新型AP表面處理辦法顯得尤為重要。
       CRF誠峰表層等離子體表面處理儀低溫plasma工藝可以將活性基團引入粉體表層或形成保護膜,從而提高粉體的分散性、相容性和力學性能。該工藝有著工藝簡單、效率高、連續性強、無溶劑、環境污染小等優點。

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