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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子體是如何有效改善環(huán)氧填料的電氣性能

        等離子體技術(shù)作為一種高(效)、可控的改性方法,可以有效改善環(huán)氧填料的電氣性能。采用大氣壓低溫等離子體技術(shù)對微米AlN填料進(jìn)行氟化處理,控制不同的氟化時(shí)間,測試改性后的環(huán)氧樹脂試樣的微觀形貌、化學(xué)組分、電荷特性及沿面閃絡(luò)特性。
        等離子體氟化45min后,填料平均粒徑降(低)26%,填料氟化45min,氟元素占比達(dá)到38.55%。隨著氟化時(shí)間增加,環(huán)氧樹脂樣初始積聚電荷量降(低),閃絡(luò)電壓呈現(xiàn)先增加后降(低)的規(guī)律,在對填料氟化45min時(shí),閃絡(luò)電壓提(升)很明(顯),較未氟化填料提(升了約39.9%,兩參數(shù)韋布爾分布表明閃絡(luò)電壓分散性也有所降(低)。等離子體填料處理提(升)環(huán)氧樹脂電氣性能的可行性,處理方法高(效)穩(wěn)定,性能提(升)明(顯),為AlN及其他填料的改性提供了新的研究思路。

等離子體

        對絕緣材料配方體系的改性,可以從源頭處提(升)絕緣子性能,因此大量的學(xué)者通過在絕緣材料中添加無機(jī)填料的方法,進(jìn)一步提高材料電荷消散率,綜合改善聚合物的絕緣性能。AlN作為一種新型無機(jī)填料具有高導(dǎo)熱性、熱膨脹系數(shù)低等眾多優(yōu)點(diǎn),受到國內(nèi)外學(xué)者的廣泛關(guān)注,研究表明,添加微米AlN后的環(huán)氧樹脂不僅提高了導(dǎo)熱率,同時(shí)力學(xué)性能也有所(提)升。但相比傳統(tǒng)的Al2O3等填料,添加AlN后的環(huán)氧樹脂絕緣性能有所下降,限制了AlN在環(huán)氧樹脂配方填料中的應(yīng)用。
        結(jié)合大氣壓低溫等離子體技術(shù)高(效)節(jié)能、設(shè)備簡單、操作簡便、控制性強(qiáng)、產(chǎn)量高等優(yōu)點(diǎn),采用介質(zhì)阻擋放電的形式,在大氣壓環(huán)境中對微米AlN填料進(jìn)行等離子體氟化處理,通過掃描電鏡(Scanning Electron Microscope, SEM)、X射線光電子能譜分析(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)、傅里葉紅外光譜(Fourier Transform Infrared, FTIR)分析添加改性微米填料后的環(huán)氧樹脂的微觀特征,研究改性后試樣的電荷消散特性和閃絡(luò)特性,尋求微米AlN填料的改性方法。


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